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ZDP系列半膜片式氣浮隔振光學(xué)平臺

  • 產(chǎn)品型號:
  • 產(chǎn)品時(shí)間:2024-05-20
  • 簡(jiǎn)要描述:ZDP系列半膜片式氣浮隔振光學(xué)平臺剛性高、穩定性好、隔振效果好,適合于科研級精密隔振要求的領(lǐng)域使用。
  • 產(chǎn)品介紹

ZDP系列半膜片式氣浮隔振光學(xué)平臺說(shuō)明:
ZDP 系列為采用韓國 DAEIL(大一)氣浮支架,配合卓立漢光隔振光學(xué)平臺標準型不銹鋼臺面,組合而成的氣浮式隔振光學(xué)平臺,整體高度 800mm,分為臺面和支撐兩部分。
臺面整體為三層夾心式蜂窩結構,上臺面材料為 SUS430(1Cr17)高導磁不銹鋼,具有很好的耐腐蝕性能。厚度根據尺寸設計為 :100/200/300mm,具有很好的硬重比和剛性。 臺面采用精密磨削工藝, 臺面的平面度達到0.02~0.05mm/600mm×600mm,臺面上按照 25mm×25mm 孔距均布 M6 螺紋孔,方便安裝各類(lèi)滑臺和調整架。
氣浮支架為韓國 DAEIL(大一)產(chǎn)品,氣室為二層結構,隔振性能較好,固有頻率實(shí)測通常在 1.5~2.5Hz,屬于精密級氣浮隔振光學(xué)平臺。大一*的技術(shù),使得 3個(gè)水平調節閥反應非常靈敏,響應時(shí)間很短。調整高度機構分為兩部分:支架下方(每個(gè)支撐腿下方)具有整體高度的調整機構,調整后可*消除地面不平引起的支架扭曲現象。支架上方采用三個(gè)*的高度調整機構,可以調整高度和臺面水平。平臺自帶腳輪,方便移動(dòng)和調整。
ZDP 系列產(chǎn)品剛性高、穩定性好、隔振效果好,適合于科研級精密隔振要求的領(lǐng)域使用。

特點(diǎn):
• 韓國DAEIL(大一)氣浮支架,隔振性能好。
• 上臺面SUS430(1Cr17)高導磁不銹鋼。
• 表面經(jīng)過(guò)亞光處理,可有效減少雜散光。
• 側面為黑色鋁塑板,美觀(guān)、實(shí)用,四角用不銹鋼板包角。
• 整體焊接支架,剛性高,穩定性好。
• 自動(dòng)充氣,自動(dòng)平衡,響應時(shí)間短,平衡速度快。
• 隔振效果好、科研級氣浮隔振光學(xué)平臺。

技術(shù)指標:
• 固有頻率:<1.5~2.5Hz,同負載和實(shí)際使用情況相關(guān)
• 平面度:0.02~0.05mm/600mm×600mm
• 上臺面:4~6mm厚 SUS430(1Cr17) 高導磁不銹鋼
• 下底面:4~6mm厚碳鋼,表面噴黑塑處理
• 臺面厚度:100/200/300mm,詳見(jiàn)選型表
• 臺面加支架總高度800mm,總高度可調范圍:-10~+15mm

• 孔距:25mm×25mm
• 最邊緣孔距邊:37.5mm
• 孔徑:M6
• 臺面重量:100mm厚臺面約:120Kg/m2
200mm厚臺面約:140Kg/m2
300mm厚臺面約:167Kg/m2

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